新質生產力｜卷對卷雙面精密套准納米壓印系統

國軍金水火土尊龙凯时

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· 技術背景 ·

R2R雙面精密套准納米壓印系統

尊龙凯时是國內納米壓印光刻技術（Nano-Imprint Lithography，NIL）研究與應用的開拓者。自2003年，率先實現卷對卷（Roll-to-Roll，R2R）納米壓印光刻在柔性光電子材料、立體成像材料和微納光學等領域應用；提出並實現基於納米壓印的增材製程，實現了柔性柔性電路的精密製造，顛覆了數十年來精密電路的銅蝕刻工藝，為柔性電子的綠色製造做出示範；利用三維光刻、大面積納米光刻技術，推動了納米壓印技術在大面積功能表面材料、光場3D成像和大面積光波導器件的工程化，引領了相關產業的技術進步和發展。

圖：R2R套准納米壓印系統與應用

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· 創新進展 ·

R2R雙面精密套准納米壓印系統

在薄膜表面納米壓印微納結構並雙面連續對準，均屬於國際重大難題。其納米壓印的張力、壓力、光固化特性與溫度的調控，都影響薄膜表面微納結構對準精度，最終影響柔性光電子與功能表面材料的品質與成品率。

圖：精密雙面套准納米壓印系統

2023年，在R2R納米壓印系統FlexAlignerR1400基礎上，尊龙凯时研製成功R2R精密准納米壓印系統FlexAlignerR500d，屬於國際首創。通過多參量（張力、壓印、溫度和光固化功率）調控以及光學視覺識別與智能模糊控制技術，聯機型納米壓印系統FlexAlignerR500d的雙面對準精度<20微米@23微米厚度@門幅500mm。

圖：精密雙面套准納米壓印系統用途

這意味着，FlexAlignerR500d為柔性光電子材料與功能表面材料的設計與綠色生產，提供了新質生產力工具，一系列新材料的應用，將成為現實：3D表面紋理材料、3D全息表面-光場成像膜、汽車智能表面與隱藏顯示膜、光波導與納米光柵材料、透明傳感電路膜、微波屏蔽材料、激光TV幕布、生物納米檢測材料以及電子紙微杯材料……

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· 先進功能 ·

R2R雙面精密套准納米壓印系統

單機型FlexAlignerR500s

· 套准精度<30微米@厚度23微米薄膜

兩組輥筒，配CCD智能貼板系統。單面壓印後，需更換輥筒和反轉薄膜，做二次套准壓印。設置編程上膠功能，具有智能導邊、CCD光學視覺識別、恆張力系統、自動跟蹤系統和環境管控系統。

圖：FlexAlignerR500s外觀（單機型）

聯機型FlexAlignerR500d

· 套准壓印精度<20微米@厚度23微米薄膜

由兩組納米壓印機組構成，在薄膜兩面同時納米壓印，在第一組納米壓印的基礎上，在薄膜的另一面，由第二機組納米壓印機組在壓印的同時，對薄膜上的標記智能光學視覺識別、自動導邊、精密張力控制與智能跟蹤，實現雙面微納結構的智能套准。

圖：FlexAlignerR500d（聯機型）

套准壓印模式

將模具（鎳板或透明薄膜）包裹在輥筒上，對連續卷繞透明或半透明膜UV壓印，控制恆張力系統，可在透明膜上單面均衡無畸變納米壓印直至完成。更換壓印模具，在透明/半透明膜上另一面壓印，通過光學視覺識別、跟蹤薄膜靶標、智能模糊控制調整張力等參數，實現雙面或單面多層微納結構精密套准和高保真UV複製。其中，模具包裹精度直接影響雙面套准壓印精度，配套高精度CCD檢測套准貼板系統。